中国光刻机工厂疯传 全网沸腾!官方揭开真相:北京高能同步辐射光源

近日,网上疯传清华大学弯道超车,已经突破EUV光刻机项目,实现了光刻机的巨大化、工厂也已经在雄安新区落地,就是下图中这个样子:

中国光刻机工厂疯传 全网沸腾!官方揭开真相:北京高能同步辐射光源

难道这真的是国产光刻机工厂?

不,中国电子院对此做出了详细的解读:

这是北京高能同步辐射光源项目(HEPS)!

HEPS坐落于北京怀柔雁栖湖畔,是国家“十三五”重大科技基础设施。

它是我国第一台高能量同步辐射光源,也是世界上亮度最高的第四代同步辐射光源之一,早在2019年就开始建设,将于2025年底投入使用。

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△北京高能同步辐射光源项目实拍图

HEPS的作用是通过加速器将电子束加速到6GeV,然后注入周长1360米的储存环,用接近光速的速度保持运转。

电子束在储存环的不同位置通过弯转磁铁或者各种插入件时,就会沿着偏转轨道切线的方向释放出稳定、高能量、高亮度的光,也就是同步辐射光。

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简单的说,HEPS可以看成是一个超精密、超高速、具有强大穿透力的巨型X光机。

它产生的小光束,可以穿透物质、深入内部进行立体扫描,从分子、原子的尺度多维度地观察微观世界。

HEPS是进行科学实验的大科学装置,并不是网传的光刻机工厂。

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该项目由全国勘察设计大师、国投集团首席科学家娄宇带队,中国电子院多个技术科研和设计团队协同合作。

从项目可研立项到项目落地,中国电子院攻克了多项技术和工艺难关,解决了项目不均匀沉降、微振动控制、超长结构设计、光伏板设计、精密温度控制、工艺循环冷却水系统、超复杂工艺系统等七大技术难题,实现了重大技术突破,指标控制达到了国际先进水平。

目前高能同步辐射光源配套工程已全面完工,向产生世界最“亮”的光又更近了一步。

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虽然HEPS不是光刻厂,但关于光刻厂的信息之所以能在自媒体平台迅速刷屏,归根到底,还是源于大众对解决“卡脖子”难题的期待。

中国电子院也在,助力“中国芯”之路上持续发力,从建院之初,便开启了中国“芯”的起步。

近年来,中国电子院深耕细做半导体行业,承担了国内超过50%的存储芯片项目,为国家在电子信息领域实现科技自立自强做出了重要贡献。

中国电子院自主开发了核心算法和数字化技术,已推出“先进电子制造数字孪生工厂解决方案1.0版”,致力于实现生产制造“绿色、低碳、精益、高效”建设目标。

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